机译:4-(3,5-二氧代-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.02,6]癸-4-基)-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.0 2,6]癸烷-3,5-二酮
机译:4-(3,5-二氧代-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.02,6]癸烷-4-基)-10-氧代-4-氮杂三环[5.2.1.02,6]癸烷-3,5-二酮
机译:4-(2-氨基苯基)-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.02,6] dec-8-ene-3,5-dione
机译:6-(4-(2- {2- [2-(2-(羟基-乙氧基)-乙氧基]-乙氧基}-乙基)-10-oxa-4-氮杂-三环[5.2.1.02,6] dec-8 -ene-3,5-dione)
机译:基于三环酸酐的电荷转移聚合的193nm光刻抗蚀剂树脂的制备与评价5.2.1.02,6 Dec-3-烯基衍生物。
机译:4-(4-甲氧基苯甲酰基)-7,7-二甲基-5-氧代-5,6,7,8-四氢萘-2,5-二酮
机译:4-(3,5-二氧代-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.02,6]癸-4-基)-10-氧杂-4-氮杂三环[5.2.1.0 2,6]癸烷-3,5-二酮